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氢气纯化设备
本氢气纯化设备系统以水电解氢为原料气，水电解出来的氢气压力为：1.6 Mpa，含水量比较多，经氢气缓冲罐缓冲可以达到稳压，除水的效果，氢气再经过美国汉克森生产的过滤器过滤气体中的杂质和大颗粒的水分，再经过进气截止阀进入除氧器，除氧器内装有大连瑞玛科技生产的99.5型钯催化剂，普氢中的氧气和氢在防爆加热器加热的条件下和钯催化剂催化下发生反应生成水，这样的化学反应是放热的 ，（这样除去普氢中的氧气），80到160℃的氢气再经过一级冷却器冷却到60℃后，再经过二级冷却器冷却到75℃，气体中的大部分水蒸气冷却成水经过排污阀排到大气中，氢气再经过汽水分离器过滤杂质和水分，再经过装有美国UOP分子筛的干燥器内除去二氧化碳和水分，经过美国汉克森生产的过滤器过滤生产出纯度为99.999%、-75℃高纯氢气，氢气经过截止阀，金属流量计，压力表等送到后级储气罐。
自然界中的氢总是以其化合物如水、碳氢化合物等形式存在，因此，在制备氢时不可避免地带有杂质。氢气中带有杂质，带来了隐患，容易发生爆炸，这要求对氢气原料进行纯化。氢的纯化是指利用物理或化学的方法，除去氢气中杂质的方法总称。随着半导体工业、精细化工和光电产业的发展，半导体生产工艺需要使用99.999%以上的高纯氢。但是工业上各种制氢方法所得到的氢气纯度不高，为满足工业上对各种高纯氢的需求，必须对氢气进行进一步的纯化

膜分离法以选择性透过膜为介质，在电位差，压力差，浓度差等推动力下，有选择的透过膜，从而达到分离提纯的目的。

金属氢化物法
生产纯度99.999%高纯氢，利用贮氢合金对氢的选择性，生成金属氢化物，氢中的其它杂质浓缩于氢化物之外，随着废气排出.金属氢化物分离放出氢气.从而使氢气纯化.常用两个四个联合起来连续工作。工艺上包括吸氢和放氢，低温高压吸氢、高温低压放氢。

低温分离
低温冷疑 基于氢与其它气体沸点差异大的原理，在操作温度下，使除氢以外所有高沸点组分冷凝为液体的分离方法，适合氢含量30-80%的原料气回收氢，产氢纯度90-98%。
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