本装置可广泛用于电子、半导体、冶金、石油、化工及玻璃等需要高纯氢气的有关科研和生产部门。
分子筛
在半导体生产中,分子筛是氢气等气体净化过程中常用的一种净化剂,它不仅能有效地除去氢气中的水份.而且还能除去氧及其它有害的杂质.那么分子筛为什么能起净化作用呢?我们知道,分子筛是一种人工合成的泡沸石,它是一种具有微孔结构的晶体,泡沸石的内部含有大量水,当加热到一定温度时水份脱去,脱水后的泡沸石产生许多肉眼看不见的大小相同的孔洞,它具有很强的吸附能力,能把小于孔洞的分子吸进孔内,把大于孔洞的分子挡在孔外,从而使某些大小不同的分子分开,即把大小不同的分子过了筛。由于有这种筛分分子的作用,所以叫做分子筛.当然分子筛和一般的筛子不同,它本身是粉末状的物质用粘合剂使它塑成小球或小圆柱体等各种形状,当气体通过它时,可使不同大小的气体分子得到分离
金属氢化物法
生产纯度99.999%高纯氢,利用贮氢合金对氢的选择性,生成金属氢化物,氢中的其它杂质浓缩于氢化物之外,随着废气排出.金属氢化物分离放出氢气.从而使氢气纯化.常用两个四个联合起来连续工作。工艺上包括吸氢和放氢,低温高压吸氢、高温低压放氢。
钯膜扩散法,在一定温度下、氢分子在钯膜一侧离解成氢原子,溶于钯并扩散到另一侧,然后结合成分子经一级分离可得到99.99-99.9999%纯度的氢,钯合金纯化工艺,对原料气中的氧、水、重烃、硫化氢,烯烃等的含量要求很严,氧会在钯合金膜表面发生氢氧催化反应,反应产的大量热,使扩散室中钯合金膜局部过热受损,水·硫化氢·烯烃·重烃会使钯合金表面重毒,氢气进入钯膜之前,氧降至0.1PPm,水和其它杂质量降到1PPm以下,钯膜的渗透压力,通常膜前1.4-3.45Mpa,膜后压力448-690Kpa。由于钯属于贵金属、本法只适于较小规模且对氢气纯度要求很高的场合使用。
低温吸附从电解氢或纯度为99.9%的工业原料氢气,可以制取纯度为99.999-99.9999%的高纯氢和**纯氢,一般用两塔流,一塔吸附,另一塔再生、周期定时切换,连续工作。
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