本装置可广泛用于电子、半导体、冶金、石油、化工及玻璃等需要高纯氢气的有关科研和生产部门。
自然界中的氢总是以其化合物如水、碳氢化合物等形式存在,因此,在制备氢时不可避免地带有杂质。氢气中带有杂质,带来了隐患,容易发生爆炸,这要求对氢气原料进行纯化。氢的纯化是指利用物理或化学的方法,除去氢气中杂质的方法总称。随着半导体工业、精细化工和光电产业的发展,半导体生产工艺需要使用99.999%以上的高纯氢。但是工业上各种制氢方法所得到的氢气纯度不高,为满足工业上对各种高纯氢的需求,必须对氢气进行进一步的纯化
低温吸附从电解氢或纯度为99.9%的工业原料氢气,可以制取纯度为99.999-99.9999%的高纯氢和**纯氢,一般用两塔流,一塔吸附,另一塔再生、周期定时切换,连续工作。
金属氢化物法
生产纯度99.999%高纯氢,利用贮氢合金对氢的选择性,生成金属氢化物,氢中的其它杂质浓缩于氢化物之外,随着废气排出.金属氢化物分离放出氢气.从而使氢气纯化.常用两个四个联合起来连续工作。工艺上包括吸氢和放氢,低温高压吸氢、高温低压放氢。
膜分离法以选择性透过膜为介质,在电位差,压力差,浓度差等推动力下,有选择的透过膜,从而达到分离提纯的目的。
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